850nm电光相位调制器品牌 康冠世纪公司

电光调制器的基本原理

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电光调制器的基础是电光效应。根据电光晶体的折射率变化量和外加电场强度的关系，电光效应可分为线性电光效应(泡克耳斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。因为线性电光效应比二次电光效应的作用效果明显，因此实际中多用线性电光调制器对光波进行调制。线性电光调制器可分为纵向的和横向的。在纵向的调制器中，电场平行于光的传播方向，声光电光相位调制器品牌，而横向调制器的电场则垂直于光传播的方向。

电光调制器的设计与选择

调制晶体对电光调制的效果影响显著，在选择晶体时应注意以下几点：光学性能好，折射率均匀，850nm电光相位调制器品牌，吸收色散损耗小，透明度高，电光系数大，物理性能优越等等。目前较常用的晶体材料包括铌酸锂和KDP类晶体，由于KDP类晶体的物理性能不佳，光学相位矩阵电光相位调制器品牌，容易发生潮解，因此其调制性能往往受到环境限制，而铌酸锂晶体则具有优越的透光性和物理性能，是电光调制晶体设计的理想材料。

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　什么是光调制器

光调制器是高速、短距离光通信的关键器件，也是重要的集成光学器件之一。光调制器按照其调制原理来讲，电光相位调制器品牌，可分为电光、热光、声光、全光等，它们所依据的基本理论是各种不同形式的电光效应、声光效应、磁光效应、Franz-Keldysh效应、量子阱Stark效应、载流子色散效应等。

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